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徽章电镀槽液的管理

徽章电镀槽液中的主成分每周可执行2-3次之化学分析,并采取必要的添补作业以维持Cu++、SO4-、与CL-应有的管制范围.至于有机添加剂的分析,早先一向以经验导向的Hull Cell试镀片,作为管理与追查的工具.此种不够科学的做法,80年代时即已逐渐被CVS法(Cyclic Voltametric Stripping循环电压剥镀分析法)所取代.现役之CVS自动分析仪器中,不但硬件十分精密,且更具备了由多项试验项模拟的结果而变得更为科学,此等预先设置的精确软件程序,对于上述三种有机助剂与氯离子,均可进行精确的分析与纪录,使得酸性镀铜的管理也将更上轨道.

 
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